接觸形式與測(cè)頭的選擇

   在接觸測(cè)量中，體現(xiàn)被測(cè)參數(shù)的表面與量?jī)x之間的接觸形式分為三種:點(diǎn)接觸形式，如球形測(cè)頭與平面工件接觸;線(xiàn)接觸形式哈默納科平面測(cè)頭諧波CSG-40-80-2UH-SP，如平面測(cè)頭與圓柱形工件表面接觸;面接觸形式，如平面測(cè)頭與平面工件接觸。

   接觸形式對(duì)測(cè)量結(jié)果有影響。正確選擇接觸形式的原則是優(yōu)先考慮采用點(diǎn)接觸;在條件不允許或?qū)崿F(xiàn)較為困難時(shí)，哈默納科平面測(cè)頭諧波CSG-40-80-2UH-SP考慮采用線(xiàn)接觸;不得已時(shí)才采用面接觸。

對(duì)線(xiàn)紋尺的檢定方法有相對(duì)測(cè)量法和測(cè)量法。在相對(duì)測(cè)量法檢定線(xiàn)紋尺中，將被檢定線(xiàn)紋尺與比其精度等級(jí)高一等的標(biāo)準(zhǔn)線(xiàn)紋尺在線(xiàn)紋尺比較儀上作相對(duì)測(cè)量，讀出二者刻線(xiàn)間距的長(zhǎng)度差，從而確定被檢線(xiàn)紋尺刻線(xiàn)間距的誤差。在測(cè)量法檢定線(xiàn)紋尺中，將被檢線(xiàn)紋尺在激光干涉比長(zhǎng)儀上進(jìn)行測(cè)量。其實(shí)質(zhì)是將被檢線(xiàn)紋尺的刻線(xiàn)間距轉(zhuǎn)變成為三面直角棱鏡的位移，從而使干涉系統(tǒng)中兩相干光束的光程差發(fā)生相應(yīng)的變化，通過(guò)光電接收器對(duì)干涉條紋明暗交替次數(shù)的檢測(cè)，即可求出被檢線(xiàn)紋尺相應(yīng)刻線(xiàn)間距的誤差在線(xiàn)紋量值傳遞系統(tǒng)中，